一种等离子处理装置的发明专利
9937次
2022-07-22
一种等离子处理装置的发明专利
摘要：
本发明的目的在于提供等离子处理装置，能够在同一腔室内进行减少了离子向样品的流出的各向同性蚀刻和将离子向样品入射的各向异性蚀刻中的任一者。因此，本发明具备：处理室，对样品进行等离子处理；高频电源，经由配置在所述处理室的上方的电介质的第一构件供给用于生成等离子的高频电力；磁场形成机构，在所述处理室内形成磁场；样品台，载置所述样品；以及第二构件，配置在所述第一构件与所述样品台之间且形成有贯通孔，所述贯通孔形成在距所述第二构件的中心为给定的距离以上的位置，从所述第一构件至所述第二构件的距离是使得在所述第一构件与所述第二构件之间生成的等离子的密度为截止密度以上的距离
专利查询：https://www1.epbiao.com/theme/zhuanlishenqing/
版权登记：https://www1.epbiao.com/banquan/
知识产权聚焦：https://www1.epbiao.com/jujiao/
- 商标查询
- 版权查询
便捷链接： 商标查询 商标注册 版权登记 专利申请 海外商标注册 商标交易
本文来源：中国商标网 - 一种等离子处理装置的发明专利
版权说明：上述为转载或编者观点，不代表一品知识产权意见，不承当任何法律责任
