一种具有双运动基片承载件的系统的发明专利
一种具有双运动基片承载件的系统的发明专利
摘要:
提供了一种处理系统,其包括:真空外壳,其具有多个处理窗口和位于其中的连续轨道;多个处理腔室,其被附接于真空外壳的侧壁,每个处理腔室对应处理窗口中的一个;装载锁定站,其被附接于真空外壳的一端并在其中定位有加载轨道;至少一个闸阀,其将装载锁定站与真空外壳间隔开;多个基片承载件,其被配置成在连续轨道和加载轨道上行进;至少一个轨道交换器,其被定位在真空外壳内,轨道交换器可在第一位置和第二位置之间移动,在第一位置中,使得基片承载件在连续轨道上连续地移动,在第二位置中,使得基片承载件在连续轨道和加载轨道之间输送。
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